R&D

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윤스랩의세계적 기술력으로 고품질의 제품을 생산합니다.

R&D Trends

  • Porosity 및 Pore size 분포

    PVA 브러쉬는 수많은 기공들로 이루어져 있습니다.
    이러한 기공들은 브러쉬의 성능에 중요한 역할을 수행하며
    적정한 기공분포와 그 사이즈는 세정능력을 좌우합니다.

  • Mold의 형상 및 구조설계

    PVA브러쉬의 생산성에 큰 영향을 미칩니다.
    또한 브러쉬 외관 형성에 직접적인 원인을 제공하므로
    최적화된 설계기술은 많은 연구가 필요한 기술의 상징입니다.

  • 재오염

    웨이퍼 청정도를 관리하는데 매우 중요한 요소입니다.
    세정 중 이탈된 슬러리에 의한 재오염은
    핵심관리 요소입니다.
    브러쉬 외관에 오염원이 달라붙어 발생하는
    재오염은 제1의 제거,
    컨트롤 목표입니다.

  • Cleaning

    웨이퍼 표면 청정도는 슬러리 등의 오염원을 기판위에서 제거하는 능력입니다.
    유기오염원 뿐만 아니라 무기오염원도 제거되어야 합니다.
    스폰지를 통해 제거할 수 있는 오염원을 구조적으로
    찾아내 제거합니다.

Porosity Anti-
Recontamination
Cleaning Brush최적화 Mold Optimization of
PVA Sponge

Technical Advances

  • Absorbency

    물의 흡수성은 원활한 펌핑 작용으로
    세정력에 중요한 영향을 줍니다.
    윤스랩은 세정력에 적당한 흡수성이 유지되도록 관리합니다.

  • Uniformity

    브러쉬 회전 시 균일한 Balance는
    세정력에 중요한 영향을 줍니다.
    윤스랩은 회전 시 균일한 Balance가 유지되도록 하는 특징적 기술을 개발하였습니다.

  • Recontamination

    세정 시 오염원의 원활한 분리는
    세정 품질에 큰 영향을 줍니다.
    윤스랩은 이탈된 오염원이 브러쉬에 재흡착되지 않도록 관리하는 기술적 노하우를 적용하고 있습니다.

Application for CMP

  • AMAT

    • 8 inch
    • 12 inch
  • Ebara

    • 8 inch
    • 12 inch
  • Lam
    Research

    • 8 inch
  • Other Equipment

New
Techknowledge Trends

윤스랩이 최근 개발에 성공한 새로운 제품은
기존 1세대 제품과 완전히 차별화된 새로운 제품입니다.
윤스랩의 2세대 제품은 PVA 브러쉬에 다양한 성능을 부가하여 단점을 줄이고 장점을 강화시켜 세정력을
크게 개선한 신제품입니다.
당사의 특허제품이며 복제할 수 없습니다.

Two way brushing
system